Flüchtige, stickstoffreiche Metallverbindungen für die chemische Gasphasenabscheidung

In der vorliegenden Arbeit werden flüchtige Metallkomplexe als potentielle Präkursorenverbindungen fur die Abscheidung von metallischen Filmen aus der Gasphase entworfen, dargestellt und charakterisiert. Diese Beschichtungverfahren, chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und Atomlagenabscheidung (ALD)...

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Detalhes bibliográficos

Autor principal:	Lange, Alexander
Outros Autores:	Sundermeyer, Jörg (Prof. Dr.) (Orientador)
Formato:	Dissertation
Idioma:	alemão
Publicado em:	Philipps-Universität Marburg 2024
Assuntos:	Chemie flüchtige Metallverbindungen volatile metallic compounds Metallorganik Ruthenium Stickstoffreiche Chelatliganden Chemistry & allied sciences
Acesso em linha:	Texto Completo em Formato PDF
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