Flüchtige, stickstoffreiche Metallverbindungen für die chemische Gasphasenabscheidung

In der vorliegenden Arbeit werden flüchtige Metallkomplexe als potentielle Präkursorenverbindungen fur die Abscheidung von metallischen Filmen aus der Gasphase entworfen, dargestellt und charakterisiert. Diese Beschichtungverfahren, chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und Atomlagenabscheidung (ALD)...

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Bibliografische gegevens

Hoofdauteur:	Lange, Alexander
Andere auteurs:	Sundermeyer, Jörg (Prof. Dr.) (Thesis begeleider)
Formaat:	Dissertation
Taal:	Duits
Gepubliceerd in:	Philipps-Universität Marburg 2024
Onderwerpen:	Chemie flüchtige Metallverbindungen volatile metallic compounds Metallorganik Ruthenium Stickstoffreiche Chelatliganden Chemistry & allied sciences
Online toegang:	PDF Full text
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