Flüchtige, stickstoffreiche Metallverbindungen für die chemische Gasphasenabscheidung

In der vorliegenden Arbeit werden flüchtige Metallkomplexe als potentielle Präkursorenverbindungen fur die Abscheidung von metallischen Filmen aus der Gasphase entworfen, dargestellt und charakterisiert. Diese Beschichtungverfahren, chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und Atomlagenabscheidung (ALD)...

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Detalles Bibliográficos

Autor Principal:	Lange, Alexander
Outros autores:	Sundermeyer, Jörg (Prof. Dr.) (BetreuerIn (Doktorarbeit))
Formato:	Dissertation
Idioma:	alemán
Publicado:	Philipps-Universität Marburg 2024
Schlagworte:	Chemie flüchtige Metallverbindungen volatile metallic compounds Metallorganik Ruthenium Stickstoffreiche Chelatliganden Chemistry & allied sciences
Acceso en liña:	Texto completo PDF
Tags:	Engadir etiqueta Sen Etiquetas, Sexa o primeiro en etiquetar este rexistro!