Flüchtige, stickstoffreiche Metallverbindungen für die chemische Gasphasenabscheidung

In der vorliegenden Arbeit werden flüchtige Metallkomplexe als potentielle Präkursorenverbindungen fur die Abscheidung von metallischen Filmen aus der Gasphase entworfen, dargestellt und charakterisiert. Diese Beschichtungverfahren, chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und Atomlagenabscheidung (ALD)...

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Podrobná bibliografie

Hlavní autor:	Lange, Alexander
Další autoři:	Sundermeyer, Jörg (Prof. Dr.) (Vedoucí práce)
Médium:	Dissertation
Jazyk:	němčina
Vydáno:	Philipps-Universität Marburg 2024
Témata:	Chemie flüchtige Metallverbindungen volatile metallic compounds Metallorganik Ruthenium Stickstoffreiche Chelatliganden Chemistry & allied sciences
On-line přístup:	Plný text ve formátu PDF
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!