Flüchtige, stickstoffreiche Metallverbindungen für die chemische Gasphasenabscheidung

In der vorliegenden Arbeit werden flüchtige Metallkomplexe als potentielle Präkursorenverbindungen fur die Abscheidung von metallischen Filmen aus der Gasphase entworfen, dargestellt und charakterisiert. Diese Beschichtungverfahren, chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und Atomlagenabscheidung (ALD)...

Fuld beskrivelse

Bibliografiske detaljer

Hovedforfatter:	Lange, Alexander
Andre forfattere:	Sundermeyer, Jörg (Prof. Dr.) (BetreuerIn (Doktorarbeit))
Format:	Dissertation
Sprog:	tysk
Udgivet:	Philipps-Universität Marburg 2024
Fag:	Chemie flüchtige Metallverbindungen volatile metallic compounds Metallorganik Ruthenium Stickstoffreiche Chelatliganden Chemistry & allied sciences
Online adgang:	PDF-Volltext
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