Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden

Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden

Synthese und strukturelle sowie spektroskopische Charakterisierung von Hydrazido(1-)- und Hydrazido(2-)-Verbindungen des Niobs, Tantals, Molybdäns und Wolframs. Hierbei wurden Bis(hydrazido)-magnesiumverbindungen sowie gemischte Halogeno-hydrazido-magnesiumsalze, mono- und disilylierte Derivate des...

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Bewaard in:
Bibliografische gegevens
Hoofdauteur: Gaess, Daniel
Andere auteurs: Sundermeyer, Jörg (Prof. Dr.) (Thesis begeleider)
Formaat: Dissertation
Taal:Duits
Gepubliceerd in: Philipps-Universität Marburg 2008
Onderwerpen:
Destillation
Diffusionsbarriere
Flüchtigkeit
Chemie
Refraktärmetallnitride
Hydrazido compounds
Hydrazidoverbindungen
Ausgangsmaterial
Magnesium
Niob
Tantal
Diffusion barrier
Cvd precursor
Hydrazinderivate
CVD-Prekursor
Nitride
MOCVD-Verfahren
CVD-Verfahren
Refractory metal nitrides
Chemistry & allied sciences
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Exemplaargegevens van
Plaatsingsnummer: urn:nbn:de:hebis:04-z2008-01523
Publicatiedatum: 2008-05-23
Datum der Annahme: 2008-04-29
Downloads: 49 (2024), 83 (2023), 168 (2022), 195 (2021), 175 (2020), 210 (2019), 159 (2018)
Lizenz: https://rightsstatements.org/vocab/InC-NC/1.0/
URL naar item: https://archiv.ub.uni-marburg.de/diss/z2008/0152
https://doi.org/10.17192/z2008.0152

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