Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden

Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden

Synthese und strukturelle sowie spektroskopische Charakterisierung von Hydrazido(1-)- und Hydrazido(2-)-Verbindungen des Niobs, Tantals, Molybdäns und Wolframs. Hierbei wurden Bis(hydrazido)-magnesiumverbindungen sowie gemischte Halogeno-hydrazido-magnesiumsalze, mono- und disilylierte Derivate des...

Deskribapen osoa

Gorde:
Xehetasun bibliografikoak
Egile nagusia: Gaess, Daniel
Beste egile batzuk: Sundermeyer, Jörg (Prof. Dr.) (Tesi aholkularia)
Formatua: Dissertation
Hizkuntza:alemana
Argitaratua: Philipps-Universität Marburg 2008
Gaiak:
Destillation
Diffusionsbarriere
Flüchtigkeit
Chemie
Refraktärmetallnitride
Hydrazido compounds
Hydrazidoverbindungen
Ausgangsmaterial
Magnesium
Niob
Tantal
Diffusion barrier
Cvd precursor
Hydrazinderivate
CVD-Prekursor
Nitride
MOCVD-Verfahren
CVD-Verfahren
Refractory metal nitrides
Chemistry & allied sciences
Sarrera elektronikoa:PDF testu osoa
Etiketak: Etiketa erantsi
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Aleari buruzko argibideak
Sailkapena: urn:nbn:de:hebis:04-z2008-01523
Argitaratze data: 2008-05-23
Datum der Annahme: 2008-04-29
Downloads: 44 (2024), 83 (2023), 168 (2022), 195 (2021), 175 (2020), 210 (2019), 159 (2018)
Lizenz: https://rightsstatements.org/vocab/InC-NC/1.0/
URL sarbidea: https://archiv.ub.uni-marburg.de/diss/z2008/0152
https://doi.org/10.17192/z2008.0152

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