Flüchtige, stickstoffreiche Metallverbindungen für die chemische Gasphasenabscheidung

In der vorliegenden Arbeit werden flüchtige Metallkomplexe als potentielle Präkursorenverbindungen fur die Abscheidung von metallischen Filmen aus der Gasphase entworfen, dargestellt und charakterisiert. Diese Beschichtungverfahren, chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und Atomlagenabscheidung (ALD)...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	Lange, Alexander
Beteiligte:	Sundermeyer, Jörg (Prof. Dr.) (BetreuerIn (Doktorarbeit))
Format:	Dissertation
Sprache:	Deutsch
Veröffentlicht:	Philipps-Universität Marburg 2024
Schlagworte:	Chemie flüchtige Metallverbindungen volatile metallic compounds Metallorganik Ruthenium Stickstoffreiche Chelatliganden Chemistry & allied sciences
Online-Zugang:	PDF-Volltext
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