Flüchtige, stickstoffreiche Metallverbindungen für die chemische Gasphasenabscheidung

In der vorliegenden Arbeit werden flüchtige Metallkomplexe als potentielle Präkursorenverbindungen fur die Abscheidung von metallischen Filmen aus der Gasphase entworfen, dargestellt und charakterisiert. Diese Beschichtungverfahren, chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und Atomlagenabscheidung (ALD)...

Ամբողջական նկարագրություն

Մատենագիտական մանրամասներ

Հիմնական հեղինակ:	Lange, Alexander
Այլ հեղինակներ:	Sundermeyer, Jörg (Prof. Dr.) (Ատենախոսության խորհրդական)
Ձևաչափ:	Dissertation
Լեզու:	գերմաներեն
Հրապարակվել է:	Philipps-Universität Marburg 2024
Խորագրեր:	Chemie flüchtige Metallverbindungen volatile metallic compounds Metallorganik Ruthenium Stickstoffreiche Chelatliganden Chemistry & allied sciences
Առցանց հասանելիություն:	PDF ամբողջական տեքստ
Ցուցիչներ:	Ավելացրեք ցուցիչ Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!