Defekte in epitaktisch gewachsenen Silizium-Schichten (Niedertemperaturepitaxie)
Gegenstand der Arbeit ist die Analyse von Defekten in Silizium Schichten, die mit Elektronenzyklotronresonanz unterstützter Gasphasenabscheidung ("electron cyclotron resonance chemical vapour deposition", ECRCVD) bei Substrattemperaturen unterhalb 600°C deponiert wurden. Untersucht wurde e...
Uloženo v:
Hlavní autor: | |
---|---|
Další autoři: | |
Médium: | Dissertation |
Jazyk: | němčina |
Vydáno: |
Philipps-Universität Marburg
2006
|
Témata: | |
On-line přístup: | Plný text ve formátu PDF |
Tagy: |
Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!
|
Internet
Plný text ve formátu PDFSignatura: |
urn:nbn:de:hebis:04-z2006-00957 |
---|---|
Datum vydání: |
2006-04-11 |
Datum der Annahme: |
2006-01-30 |
Downloads: |
30 (2024), 53 (2023), 57 (2022), 17 (2021), 15 (2020), 19 (2019), 10 (2018) |
Lizenz: |
https://rightsstatements.org/vocab/InC-NC/1.0/ |
Přístupová URL adresa: |
https://archiv.ub.uni-marburg.de/diss/z2006/0095 https://doi.org/10.17192/z2006.0095 |