On the mechanisms of hydrogen implantation induced silicon surface layer cleavage

Αποθηκεύτηκε σε:
Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Κύριος συγγραφέας: Höchbauer, Tobias
Μορφή: Dissertation
Γλώσσα:Αγγλικά
Έκδοση: Philipps-Universität Marburg 2001
Θέματα:
Διαθέσιμο Online:Πλήρες κείμενο PDF
Ετικέτες: Προσθήκη ετικέτας
Δεν υπάρχουν, Καταχωρήστε ετικέτα πρώτοι!