Schichtdickenbestimmung dünner Metallfilme mittels Schwingquarzwaage, Lichtabschwächung und AFM

Für die Forschung mit molekularen Halbleitern sind oftmals Substrate mit besonderen Eigenschaften nötig. Zu diesem Zweck wurden im Rahmen der Arbeit mit Hilfe eines Bedampfungsverfahrens Schichten aus Silber und Gold hergestellt. Ein kritischer Faktor dabei ist die Kontrolle der Aufdampfrate, die mi...

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Bewaard in:
Bibliografische gegevens
Hoofdauteur: Klues, Michael
Formaat: Bachelorarbeit
Taal:Duits
Gepubliceerd in: Philipps-Universität Marburg 2010
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Omschrijving
Samenvatting:Für die Forschung mit molekularen Halbleitern sind oftmals Substrate mit besonderen Eigenschaften nötig. Zu diesem Zweck wurden im Rahmen der Arbeit mit Hilfe eines Bedampfungsverfahrens Schichten aus Silber und Gold hergestellt. Ein kritischer Faktor dabei ist die Kontrolle der Aufdampfrate, die mit einem Schwingquarz gemessen wird. Um dessen Ergebnisse kalibrieren zu können werden die Schichtdicken mit einem AFM vermessen. Zudem wird getestet, in wie weit ein Transmissionsmessgerät zur schnellen und zerstörungsfreien Überprüfung der Schichtdicken dienen kann.
DOI:10.17192/ed.2010.0008