Chemical vapor deposition and physical characterization of gallium, and carbon-related structures on Si (001) and GaP/Si (001) templates for the growth of graphene layers

Chemical vapor deposition and physical characterization of gallium, and carbon-related structures on Si (001) and GaP/Si (001) templates for the growth of graphene layers

This study aimed at the deposition of graphene on Si(001) via CVD by depositing Ga on Si, which was then treated with C. Ga has been shown to have a catalytic effect on the growth of graphene. This study focussed on examining the growth surface and the deposition of Ga on this. Si(001) was primarily...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Tác giả chính: Werner, Katharina
Tác giả khác: Stolz, Wolfgang (Dr. habil.) (Cố vấn luận án)
Định dạng: Dissertation
Ngôn ngữ:Tiếng Anh
Được phát hành: Philipps-Universität Marburg 2015
Những chủ đề:
Silizium
Semiconducting silicon
Metallic gallium
Chemische Gasphasenabscheidung
Physik
Graphen
Gallium
Graphene
Chemical vapour deposition
Physics
Truy cập trực tuyến:Bài toàn văn PDF
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!

Internet

Bài toàn văn PDF

Chi tiết quỹ từ
Số hiệu: urn:nbn:de:hebis:04-z2015-04724
Ngày xuất bản: 2015-11-30
Datum der Annahme: 2015-09-30
Downloads: 93 (2024), 99 (2023), 55 (2022), 58 (2021), 50 (2020), 38 (2019), 35 (2018)
Lizenz: https://rightsstatements.org/vocab/InC-NC/1.0/
Địa chỉ truy cập: https://archiv.ub.uni-marburg.de/diss/z2015/0472
https://doi.org/10.17192/z2015.0472

Những quyển sách tương tự