Chemical vapor deposition and physical characterization of gallium, and carbon-related structures on Si (001) and GaP/Si (001) templates for the growth of graphene layers

Chemical vapor deposition and physical characterization of gallium, and carbon-related structures on Si (001) and GaP/Si (001) templates for the growth of graphene layers

This study aimed at the deposition of graphene on Si(001) via CVD by depositing Ga on Si, which was then treated with C. Ga has been shown to have a catalytic effect on the growth of graphene. This study focussed on examining the growth surface and the deposition of Ga on this. Si(001) was primarily...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Werner, Katharina
مؤلفون آخرون: Stolz, Wolfgang (Dr. habil.) (مرشد الأطروحة)
التنسيق: Dissertation
اللغة:الإنجليزية
منشور في: Philipps-Universität Marburg 2015
الموضوعات:
Silizium
Semiconducting silicon
Metallic gallium
Chemische Gasphasenabscheidung
Physik
Graphen
Gallium
Graphene
Chemical vapour deposition
Physics
الوصول للمادة أونلاين:PDF النص الكامل
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

الانترنت

PDF النص الكامل

تفاصيل المقتنيات من
رقم الاستدعاء: urn:nbn:de:hebis:04-z2015-04724
تاريخ النشر: 2015-11-30
Datum der Annahme: 2015-09-30
Downloads: 93 (2024), 99 (2023), 55 (2022), 58 (2021), 50 (2020), 38 (2019), 35 (2018)
Lizenz: https://rightsstatements.org/vocab/InC-NC/1.0/
URL الوصول: https://archiv.ub.uni-marburg.de/diss/z2015/0472
https://doi.org/10.17192/z2015.0472

مواد مشابهة