Die elektronische Struktur des amorph-kristallinen Silizium-Heterostruktur-Kontakts

Die elektronische Struktur des amorph-kristallinen Silizium-Heterostruktur-Kontakts

In der vorliegenden Arbeit wurde die elektronische Zustandsdichte hydrogenisierter amorpher Silizium (a-Si:H)-Schichten mit Dicken von 300 bis hinab zu ~2 nm untersucht. Die dazu eingesetzte Methode der Nah-UV-Photoelektronenspektroskopie (NUV-PES) liefert eine gemittelte Valenzband-Zustandsdichte d...

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Bewaard in:
Bibliografische gegevens
Hoofdauteur: Korte, Lars
Andere auteurs: Fuhs, Walter (Prof. Dr.) (Thesis begeleider)
Formaat: Dissertation
Taal:Duits
Gepubliceerd in: Philipps-Universität Marburg 2006
Onderwerpen:
Charge carriers: generation, recombination, lifetime, and trapping
Heterostruktur-Bauelement
Amorphous silicon
Heterojunction
Ph
Photoelektronenspektroskopie
Crystalline silicon
Silicium
Charge carriers: generation, recombination, lifetime, trapping, mean free paths
Zustandsdichte
Physik
Amorphes Silicum
Surface states, band structure, electron density of states
III-V semiconductor-to-semiconductor contacts, p-n junctions, and
Photoelectron spectroscopy
Ultraviolett-Photoelektronenspektroskopie
Heterostruktur
Density of states
Amorphous semiconductors; glasses
Band-Offset
Physics
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