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Titel: Functionalization of Oxidic Semiconductor Surfaces by Covalently Bound Molecular Thin Films
Autor: Ostapenko, Alexandra
Weitere Beteiligte: Witte, Gregor (Prof. Dr.)
Erscheinungsjahr: 2016
URI: https://archiv.ub.uni-marburg.de/diss/z2016/0126
DOI: https://doi.org/10.17192/z2016.0126
URN: urn:nbn:de:hebis:04-z2016-01261
DDC: 530 Physik
Titel(trans.): Funktionalisierung von oxidischen Halbleiteroberflächen mit kovalent gebundenen molekularen Dünnfilmen

Dokument

Schlagwörter:
Dünne Schicht, Halbleiter, Zinkoxid, Titandioxid, Stabilität, Oberfläche, Organischer Halbleiter, Monoschicht, Metalloxide, Selbstassemblierte Monolage, Self-assembled monolayers, metal oxide, phosphonic acid, organic semiconductor, surface etching

Summary:
The study was intended to achieve covalent fixation of self-assembled monolayers on metal oxide surfaces, in particular rutile titanium dioxide and zinc oxide (ZnO), and to distinguish the microscopic character of their linkage.The results obtained confirm the importance of a detailed, comprehensive analysis of such experiments. The main achievement of this work is a very profound investigation of the influence of preparation pathways as well as stru cture of supporting substrates on the resulting thin film quality and stability. Many essential issues crucial for the attachment of PA-based SAMs on metal oxide surfaces were addressed for the first time in this work. Obtained results reveal possibilities for further investigations of some phenomena.

Zusammenfassung:
Ziel dieser Arbeit war die Untersuchung der kovalenten Bindung von selbstassemblierten Monolagen auf Metalloxidoberflächen, insbesondere Rutil Titandioxid (TiO2) und Zinkoxid (ZnO), und die Charakterisierung der mikroskopischen Eigenschaften dieser Bindung. Diese Thesis fasst Erkenntnisse experimenteller Untersuchungen über die Formation von SAMs auf Oxidoberflächen zusammen. Die gesammelten Ergebnisse bestätigen die Wichtigkeit einer detaillierten, umfassenden Analyse der Experimente. Das Hauptziel dieser Arbeit ist eine eingehende Untersuchung sowohl der Einflüsse von Präparierungsmethoden, als auch der Struktur der unterstützenden Substrate auf die Dünnfilmqualität und -stablität. Viele zentrale Faktoren, die für die Anlagerung von PA-basierten SAMs auf Metalloxidoberflächen notwendig sind, werden in dieser Arbeit erstmalig untersucht. Die Ergebnisse eröffnen neue Möglichkeiten um einige Phänomene näher zu untersuchen.


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