Flüchtige, stickstoffreiche Metallverbindungen für die chemische Gasphasenabscheidung
In der vorliegenden Arbeit werden flüchtige Metallkomplexe als potentielle Präkursorenverbindungen fur die Abscheidung von metallischen Filmen aus der Gasphase entworfen, dargestellt und charakterisiert. Diese Beschichtungverfahren, chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und Atomlagenabscheidung (ALD)...
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Contributors: | |
Format: | Doctoral Thesis |
Language: | German |
Published: |
Philipps-Universität Marburg
2024
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