Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden

Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden

Synthese und strukturelle sowie spektroskopische Charakterisierung von Hydrazido(1-)- und Hydrazido(2-)-Verbindungen des Niobs, Tantals, Molybdäns und Wolframs. Hierbei wurden Bis(hydrazido)-magnesiumverbindungen sowie gemischte Halogeno-hydrazido-magnesiumsalze, mono- und disilylierte Derivate des...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Gaess, Daniel
Beteiligte: Sundermeyer, Jörg (Prof. Dr.) (BetreuerIn (Doktorarbeit))
Format: Dissertation
Sprache:Deutsch
Veröffentlicht: Philipps-Universität Marburg 2008
Schlagworte:
Destillation
Hydrazido compounds
Flüchtigkeit
Diffusionsbarriere
Chemie
Hydrazidoverbindungen
Ausgangsmaterial
Magnesium
Niob
Tantal
Diffusion barrier
Refractory metal nitrides
Cvd precursor
Hydrazinderivate
Nitride
MOCVD-Verfahren
CVD-Verfahren
Refraktärmetallnitride
CVD-Prekursor
Chemistry & allied sciences
Online Zugang:PDF-Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:Synthese und strukturelle sowie spektroskopische Charakterisierung von Hydrazido(1-)- und Hydrazido(2-)-Verbindungen des Niobs, Tantals, Molybdäns und Wolframs. Hierbei wurden Bis(hydrazido)-magnesiumverbindungen sowie gemischte Halogeno-hydrazido-magnesiumsalze, mono- und disilylierte Derivate des Dimethylhydrazins verwendet, um Hydrazidoliganden in Gruppe V und Gruppe VI Chloride und Imidokomplexe einzuführen. Die erhaltenen Verbindungen sind flüchtig und lassen sich als Prekursoren in der CVD von Refraktärmetallnitriden einsetzen. Einige dieser Verbindungen zeigen eine Liganddynamik, welche NMR-spektroskopisch verfolgt wurde.
Umfang:222 Seiten
DOI:10.17192/z2008.0152

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