Schichtdickenbestimmung dünner Metallfilme mittels Schwingquarzwaage, Lichtabschwächung und AFM

Für die Forschung mit molekularen Halbleitern sind oftmals Substrate mit besonderen Eigenschaften nötig. Zu diesem Zweck wurden im Rahmen der Arbeit mit Hilfe eines Bedampfungsverfahrens Schichten aus Silber und Gold hergestellt. Ein kritischer Faktor dabei ist die Kontrolle der Aufdampfrate, die mi...

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Main Author: Klues, Michael
Format: Bachelors Thesis
Language:German
Published: Philipps-Universität Marburg 2010
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Research in the range of molecular semi conductors often needs substrates with special characteristics. For this purpose thin films of Silver and gold were produced, using Physical Vapor Deposition. Therefore controlling the deposition rate, which is measured by a Quarz-Crystal-Film-Monitor, is a critical factor. In order to calibrate this instrument the film thickness is also measured by an AFM. Furthermore a method, using light absorption to measure the film thicknes easy and without destroying the sample, is tested.