Ab Initio Modelling of Chemical Vapor and Area‐Selective Atomic Layer Deposition - Developing an Automated Exploration of Surface Reaction Networks

Ab Initio Modelling of Chemical Vapor and Area‐Selective Atomic Layer Deposition - Developing an Automated Exploration of Surface Reaction Networks

In the present dissertation the surface reactivity of small molecules within the thin film growth by chemical vapor deposition and area-selective atomic layer deposition is studied by density functional theory. In a first part, an approach for an automated exploration of reaction networks is prese...

Ամբողջական նկարագրություն

Պահպանված է:
Մատենագիտական մանրամասներ
Հիմնական հեղինակ: Pieck, Fabian
Այլ հեղինակներ: Tonner-Zech, Ralf (Prof. Dr.) (Ատենախոսության խորհրդական)
Ձևաչափ: Dissertation
Լեզու:անգլերեն
Հրապարակվել է: Philipps-Universität Marburg 2022
Խորագրեր:
Metalorganic Vapor Phase Epitaxy (MOVPE)
Atomic Layer Deposition (ALD)
Chemie
Density Functional Theory (DFT)
Area Selective Atomic Layer Deposition (AS-A
Chemistry & allied sciences
Առցանց հասանելիություն:PDF ամբողջական տեքստ
Ցուցիչներ: Ավելացրեք ցուցիչ
Չկան պիտակներ, Եղեք առաջինը, ով նշում է այս գրառումը!
No references were found for this record.

Նմանատիպ նյութեր