Ab Initio Modelling of Chemical Vapor and Area‐Selective Atomic Layer Deposition - Developing an Automated Exploration of Surface Reaction Networks

Ab Initio Modelling of Chemical Vapor and Area‐Selective Atomic Layer Deposition - Developing an Automated Exploration of Surface Reaction Networks

In the present dissertation the surface reactivity of small molecules within the thin film growth by chemical vapor deposition and area-selective atomic layer deposition is studied by density functional theory. In a first part, an approach for an automated exploration of reaction networks is prese...

תיאור מלא

שמור ב:
מידע ביבליוגרפי
מחבר ראשי: Pieck, Fabian
מחברים אחרים: Tonner-Zech, Ralf (Prof. Dr.) (BetreuerIn (Doktorarbeit))
פורמט: Dissertation
שפה:אנגלית
יצא לאור: Philipps-Universität Marburg 2022
נושאים:
Metalorganic Vapor Phase Epitaxy (MOVPE)
Atomic Layer Deposition (ALD)
Chemie
Density Functional Theory (DFT)
Area Selective Atomic Layer Deposition (AS-A
Chemistry & allied sciences
גישה מקוונת:PDF-Volltext
תגים: הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
No references were found for this record.

פריטים דומים