Ab Initio Modelling of Chemical Vapor and Area‐Selective Atomic Layer Deposition - Developing an Automated Exploration of Surface Reaction Networks
In the present dissertation the surface reactivity of small molecules within the thin film growth by chemical vapor deposition and area-selective atomic layer deposition is studied by density functional theory. In a first part, an approach for an automated exploration of reaction networks is prese...
সংরক্ষণ করুন:
প্রধান লেখক: | |
---|---|
অন্যান্য লেখক: | |
বিন্যাস: | Dissertation |
ভাষা: | ইংরেজি |
প্রকাশিত: |
Philipps-Universität Marburg
2022
|
বিষয়গুলি: | |
অনলাইন ব্যবহার করুন: | পিডিএফ এ সম্পূর্ন পাঠ |
ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|
No references were found for this record.