Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden

Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden

Synthese und strukturelle sowie spektroskopische Charakterisierung von Hydrazido(1-)- und Hydrazido(2-)-Verbindungen des Niobs, Tantals, Molybdäns und Wolframs. Hierbei wurden Bis(hydrazido)-magnesiumverbindungen sowie gemischte Halogeno-hydrazido-magnesiumsalze, mono- und disilylierte Derivate des...

Olles dieđut

Furkejuvvon:
Bibliográfalaš dieđut
Váldodahkki: Gaess, Daniel
Eará dahkkit: Sundermeyer, Jörg (Prof. Dr.) (BetreuerIn (Doktorarbeit))
Materiálatiipa: Dissertation
Giella:duiskkagiella
Almmustuhtton: Philipps-Universität Marburg 2008
Fáttát:
Destillation
Diffusionsbarriere
Flüchtigkeit
Chemie
Refraktärmetallnitride
Hydrazido compounds
Hydrazidoverbindungen
Ausgangsmaterial
Magnesium
Niob
Tantal
Diffusion barrier
Cvd precursor
Hydrazinderivate
CVD-Prekursor
Nitride
MOCVD-Verfahren
CVD-Verfahren
Refractory metal nitrides
Chemistry & allied sciences
Liŋkkat:PDF-ollesdeaksta
Fáddágilkorat: Lasit fáddágilkoriid
Eai fáddágilkorat, Lasit vuosttaš fáddágilkora!
Govvádus
Čoahkkáigeassu:Synthese und strukturelle sowie spektroskopische Charakterisierung von Hydrazido(1-)- und Hydrazido(2-)-Verbindungen des Niobs, Tantals, Molybdäns und Wolframs. Hierbei wurden Bis(hydrazido)-magnesiumverbindungen sowie gemischte Halogeno-hydrazido-magnesiumsalze, mono- und disilylierte Derivate des Dimethylhydrazins verwendet, um Hydrazidoliganden in Gruppe V und Gruppe VI Chloride und Imidokomplexe einzuführen. Die erhaltenen Verbindungen sind flüchtig und lassen sich als Prekursoren in der CVD von Refraktärmetallnitriden einsetzen. Einige dieser Verbindungen zeigen eine Liganddynamik, welche NMR-spektroskopisch verfolgt wurde.
Olgguldas hápmi:222 Seiten
DOI:10.17192/z2008.0152

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