Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden

Gaess, Daniel

Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden

Synthese und strukturelle sowie spektroskopische Charakterisierung von Hydrazido(1-)- und Hydrazido(2-)-Verbindungen des Niobs, Tantals, Molybdäns und Wolframs. Hierbei wurden Bis(hydrazido)-magnesiumverbindungen sowie gemischte Halogeno-hydrazido-magnesiumsalze, mono- und disilylierte Derivate des...

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Detalles Bibliográficos
Autor Principal:	Gaess, Daniel
Outros autores:	Sundermeyer, Jörg (Prof. Dr.) (BetreuerIn (Doktorarbeit))
Formato:	Dissertation
Idioma:	alemán
Publicado:	Philipps-Universität Marburg 2008
Schlagworte:	Destillation Diffusionsbarriere Flüchtigkeit Chemie Refraktärmetallnitride Hydrazido compounds Hydrazidoverbindungen Ausgangsmaterial Magnesium Niob Tantal Diffusion barrier Cvd precursor Hydrazinderivate CVD-Prekursor Nitride MOCVD-Verfahren CVD-Verfahren Refractory metal nitrides Chemistry & allied sciences
Acceso en liña:	Texto completo PDF
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Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden

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