Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden

Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden

Synthese und strukturelle sowie spektroskopische Charakterisierung von Hydrazido(1-)- und Hydrazido(2-)-Verbindungen des Niobs, Tantals, Molybdäns und Wolframs. Hierbei wurden Bis(hydrazido)-magnesiumverbindungen sowie gemischte Halogeno-hydrazido-magnesiumsalze, mono- und disilylierte Derivate des...

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Detalles Bibliográficos
Autor Principal: Gaess, Daniel
Outros autores: Sundermeyer, Jörg (Prof. Dr.) (BetreuerIn (Doktorarbeit))
Formato: Dissertation
Idioma:alemán
Publicado: Philipps-Universität Marburg 2008
Schlagworte:
Destillation
Diffusionsbarriere
Flüchtigkeit
Chemie
Refraktärmetallnitride
Hydrazido compounds
Hydrazidoverbindungen
Ausgangsmaterial
Magnesium
Niob
Tantal
Diffusion barrier
Cvd precursor
Hydrazinderivate
CVD-Prekursor
Nitride
MOCVD-Verfahren
CVD-Verfahren
Refractory metal nitrides
Chemistry & allied sciences
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Número de Clasificación: urn:nbn:de:hebis:04-z2008-01523
Data de Publicación: 2008-05-23
Datum der Annahme: 2008-04-29
Downloads: 48 (2024), 83 (2023), 168 (2022), 195 (2021), 175 (2020), 210 (2019), 159 (2018)
Lizenz: https://rightsstatements.org/vocab/InC-NC/1.0/
URL de acceso: https://archiv.ub.uni-marburg.de/diss/z2008/0152
https://doi.org/10.17192/z2008.0152

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