Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden

Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden

Synthese und strukturelle sowie spektroskopische Charakterisierung von Hydrazido(1-)- und Hydrazido(2-)-Verbindungen des Niobs, Tantals, Molybdäns und Wolframs. Hierbei wurden Bis(hydrazido)-magnesiumverbindungen sowie gemischte Halogeno-hydrazido-magnesiumsalze, mono- und disilylierte Derivate des...

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Tallennettuna:
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Päätekijä: Gaess, Daniel
Muut tekijät: Sundermeyer, Jörg (Prof. Dr.) (BetreuerIn (Doktorarbeit))
Aineistotyyppi: Dissertation
Kieli:saksa
Julkaistu: Philipps-Universität Marburg 2008
Aiheet:
Destillation
Diffusionsbarriere
Flüchtigkeit
Chemie
Refraktärmetallnitride
Hydrazido compounds
Hydrazidoverbindungen
Ausgangsmaterial
Magnesium
Niob
Tantal
Diffusion barrier
Cvd precursor
Hydrazinderivate
CVD-Prekursor
Nitride
MOCVD-Verfahren
CVD-Verfahren
Refractory metal nitrides
Chemistry & allied sciences
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Saatavuus:
Hyllypaikka: urn:nbn:de:hebis:04-z2008-01523
Julkaisupäivä: 2008-05-23
Datum der Annahme: 2008-04-29
Downloads: 48 (2024), 83 (2023), 168 (2022), 195 (2021), 175 (2020), 210 (2019), 159 (2018)
Lizenz: https://rightsstatements.org/vocab/InC-NC/1.0/
Linkki aineistoon: https://archiv.ub.uni-marburg.de/diss/z2008/0152
https://doi.org/10.17192/z2008.0152

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