0500 Oau
1100 2008
2050 ##0##urn:nbn:de:hebis:04-z2008-01523
2051 ##0##10.17192/z2008.0152
3000 Gaess, Daniel
4000 Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden
4085 ##0##=s MB=u https://archiv.ub.uni-marburg.de/diss/z2008/0152=x H
5050 |540
5584 Destillation
5584 Hydrazido compounds
5584 Flüchtigkeit
5584 Diffusionsbarriere
5584 Chemie
5584 Hydrazidoverbindungen
5584 Ausgangsmaterial
5584 Magnesium
5584 Niob
5584 Tantal
5584 Diffusion barrier
5584 Refractory metal nitrides
5584 Cvd precursor
5584 Hydrazinderivate
5584 Nitride
5584 MOCVD-Verfahren
5584 CVD-Verfahren
5584 Refraktärmetallnitride
5584 CVD-Prekursor
opus:1987