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Schichtdickenbestimmung dünner Metallfilme mittels Schwingquarzwaage, Lichtabschwächung und AFM
Für die Forschung mit molekularen Halbleitern sind oftmals Substrate mit besonderen Eigenschaften nötig. Zu diesem Zweck wurden im Rahmen der Arbeit mit Hilfe eines Bedampfungsverfahrens Schichten aus Silber und Gold hergestellt. Ein kritischer Faktor dabei ist die Kontrolle der Aufdampfrate, die mi...
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| 第一著者: | |
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| フォーマット: | Bachelorarbeit |
| 言語: | ドイツ語 |
| 出版事項: |
Philipps-Universität Marburg
2010
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| 主題: | |
| オンライン･アクセス: | PDFフルテキスト |
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| 要約: | Für die Forschung mit molekularen Halbleitern sind oftmals Substrate mit besonderen Eigenschaften nötig. Zu diesem Zweck wurden im Rahmen der Arbeit mit Hilfe eines Bedampfungsverfahrens Schichten aus Silber und Gold hergestellt. Ein kritischer Faktor dabei ist die Kontrolle der Aufdampfrate, die mit einem Schwingquarz gemessen wird. Um dessen Ergebnisse kalibrieren zu können werden die Schichtdicken mit einem AFM vermessen. Zudem wird getestet, in wie weit ein Transmissionsmessgerät zur schnellen und zerstörungsfreien Überprüfung der Schichtdicken dienen kann. |
|---|---|
| DOI: | 10.17192/ed.2010.0008 |