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Schichtdickenbestimmung dünner Metallfilme mittels Schwingquarzwaage, Lichtabschwächung und AFM
Für die Forschung mit molekularen Halbleitern sind oftmals Substrate mit besonderen Eigenschaften nötig. Zu diesem Zweck wurden im Rahmen der Arbeit mit Hilfe eines Bedampfungsverfahrens Schichten aus Silber und Gold hergestellt. Ein kritischer Faktor dabei ist die Kontrolle der Aufdampfrate, die mi...
| מחבר ראשי: | |
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| פורמט: | Bachelorarbeit |
| שפה: | גרמנית |
| יצא לאור: |
Philipps-Universität Marburg
2010
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| נושאים: | |
| גישה מקוונת: | PDF-Volltext |
| תגים: |
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Research in the range of molecular semi conductors often needs substrates with special characteristics. For this purpose thin films of Silver and gold were produced, using Physical Vapor Deposition. Therefore controlling the deposition rate, which is measured by a Quarz-Crystal-Film-Monitor, is a critical factor. In order to calibrate this instrument the film thickness is also measured by an AFM. Furthermore a method, using light absorption to measure the film thicknes easy and without destroying the sample, is tested.