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Titel:Schichtdickenbestimmung dünner Metallfilme mittels Schwingquarzwaage, Lichtabschwächung und AFM
Autor:Klues, Michael
Erscheinungsjahr:2010
URI:http://archiv.ub.uni-marburg.de/ed/2010/0008
DOI: https://doi.org/10.17192/ed.2010.0008
URN: urn:nbn:de:hebis:04-ed2010-00084
DDC: Physik
Titel(trans.):Sizing thin films of metal, using a Quarz-Crystal-Monitor, light absorption and AFM

Dokument

Schlagwörter:
Lichtabsorption, Schichtdicke, Metallschicht, plane correction, Schwingquarz, plane correction

Zusammenfassung:
Für die Forschung mit molekularen Halbleitern sind oftmals Substrate mit besonderen Eigenschaften nötig. Zu diesem Zweck wurden im Rahmen der Arbeit mit Hilfe eines Bedampfungsverfahrens Schichten aus Silber und Gold hergestellt. Ein kritischer Faktor dabei ist die Kontrolle der Aufdampfrate, die mit einem Schwingquarz gemessen wird. Um dessen Ergebnisse kalibrieren zu können werden die Schichtdicken mit einem AFM vermessen. Zudem wird getestet, in wie weit ein Transmissionsmessgerät zur schnellen und zerstörungsfreien Überprüfung der Schichtdicken dienen kann.

Summary:
Research in the range of molecular semi conductors often needs substrates with special characteristics. For this purpose thin films of Silver and gold were produced, using Physical Vapor Deposition. Therefore controlling the deposition rate, which is measured by a Quarz-Crystal-Film-Monitor, is a critical factor. In order to calibrate this instrument the film thickness is also measured by an AFM. Furthermore a method, using light absorption to measure the film thicknes easy and without destroying the sample, is tested.


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