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| Titel: | Hydrazidoverbindungen des Niobs und Tantals im Kontext der Chemical Vapor Deposition von Refraktärmetallnitriden |
| Autor: | Gaess, Daniel |
| Weitere Beteiligte: | Sundermeyer, Jörg (Prof. Dr.) |
| Veröffentlicht: | 2008 |
| URI: | https://archiv.ub.uni-marburg.de/diss/z2008/0152 |
| URN: | urn:nbn:de:hebis:04-z2008-01523 |
| DOI: | https://doi.org/10.17192/z2008.0152 |
| DDC: | Chemie |
| Titel (trans.): | Hydrazido Compounds of Niobium and Tantalum in the Context of Chemical Vapor Deposition of Refractory Metal Nitrides |
| Publikationsdatum: | 2008-05-23 |
| Lizenz: | https://rightsstatements.org/vocab/InC-NC/1.0/ |
| Schlagwörter: |
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| Destillation, Hydrazido compounds, Flüchtigkeit, Diffusionsbarriere, Hydrazidoverbindungen, Ausgangsmaterial, Magnesium, Niob, Tantal, Diffusion barrier, Refractory metal nitrides, Cvd precursor, Hydrazinderivate, Nitride, MOCVD-Verfahren, CVD-Verfahren, Refraktärmetallnitride, CVD-Prekursor |
Zusammenfassung:
Synthese und strukturelle sowie spektroskopische Charakterisierung von Hydrazido(1-)- und Hydrazido(2-)-Verbindungen des Niobs, Tantals, Molybdäns und Wolframs. Hierbei wurden Bis(hydrazido)-magnesiumverbindungen sowie gemischte Halogeno-hydrazido-magnesiumsalze, mono- und disilylierte Derivate des Dimethylhydrazins verwendet, um Hydrazidoliganden in Gruppe V und Gruppe VI Chloride und Imidokomplexe einzuführen. Die erhaltenen Verbindungen sind flüchtig und lassen sich als Prekursoren in der CVD von Refraktärmetallnitriden einsetzen. Einige dieser Verbindungen zeigen eine Liganddynamik, welche NMR-spektroskopisch verfolgt wurde.
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